【刻蚀机和光刻机的区别】刻蚀机与光刻机是半导体制造中的两种关键设备，虽然都用于芯片加工，但功能和作用截然不同。
| 项目 | 刻蚀机 | 光刻机 |
| 功能 | 去除多余材料，形成电路结构 | 将设计图案转移到晶圆上 |
| 工艺阶段 | 后段工艺 | 前段工艺 |
| 技术原理 | 化学或物理方式去除材料 | 光学或电子束投影技术 |
| 应用场景 | 形成沟槽、孔洞等微结构 | 定位和转移电路图形 |
| 精度要求 | 高精度，需控制尺寸和形貌 | 极高精度，决定芯片性能 |
两者相辅相成，共同完成芯片的精细制造过程。
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问 刻蚀机和光刻机的区别
2025-07-12 21:48:45
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